機(jī)譯:脈沖等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的等離子體和氣相表征,該系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于氧化鋁薄膜的自限生長(zhǎng)
機(jī)譯:脈沖液體注入等離子體增強(qiáng)金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法沉積氧化釔和硅酸釔薄膜的微觀結(jié)構(gòu)和電學(xué)性質(zhì)
機(jī)譯:等離子體處理氧化黃銅表面形成的薄氧化膜的制備與表征
機(jī)譯:等離子體輔助N2O氧化沉積薄膜晶體管的氮氧化硅超薄膜的表征
機(jī)譯:基于八氟環(huán)丁烷的等離子放電的特征,用于二氧化硅和低K介電薄膜的選擇性刻蝕和處理。
機(jī)譯:快速熱等離子體CVD直接合成并表征光學(xué)透明的保形氧化鋅納米晶薄膜
機(jī)譯:PVD氧化物的薄膜和等離子體表征